國產(chǎn)光刻機迎來突破：芯上微裝AST6200光刻機獲行業(yè)頭部客戶重復訂單

2026-08-10 13:35:45來源：上海芯上微裝科技股份有限公司關鍵詞：光刻機 AST6200光刻機閱讀量：4791

導讀：上海芯上微裝科技股份有限公司自主研發(fā)的350nm步進投影光刻機(AST6200)可廣泛應用于功率器件、射頻前端、光電子芯片及Micro LED新型顯示等制程場景。

　　近日，上海芯上微裝科技股份有限公司自主研發(fā)的350nm步進投影光刻機(AST6200)憑借卓越性能與穩(wěn)定表現(xiàn)，快速順利通過國內(nèi)化合物半導體領域頭部客戶的工藝驗證，并斬獲批量重復訂單。

　　AST6200光刻機可廣泛應用于功率器件、射頻前端、光電子芯片及Micro LED新型顯示等制程場景。設備在關鍵工藝效果、工藝適應性與軟件自主化方面均展現(xiàn)出核心優(yōu)勢：

　　關鍵工藝效果

　　AST6200光刻機搭載高性能投影物鏡與先進照明模式，穩(wěn)定實現(xiàn)350nm高分辨率精細圖案化能力，全面滿足Si、SiC、GaN、GaAs、InP、藍寶石等多種襯底材料的光刻需求。其高精度對準系統(tǒng)確保多層圖形之間精準套刻，顯著提升器件良率。同時，通過采用高照度光源、高速基底傳輸系統(tǒng)及高動態(tài)運動臺，顯著提升單位時間產(chǎn)出，有效幫助客戶降低單顆芯片的綜合擁有成本(COO)。

　　強大工藝適應性

　　AST6200光刻機創(chuàng)新調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)能夠穩(wěn)定測量透明、半透明、不透明及大臺階等多種基底，確保復雜襯底條件下的曝光質(zhì)量。平邊對準和背面對準模塊的加入，可滿足特殊基底晶向解理和鍵合片對位等復雜制程需求。設備支持從2英寸到8英寸多種規(guī)格基片，兼容平邊、雙平邊、Notch等主流基底類型，真正實現(xiàn)“一機多用”，為客戶產(chǎn)線切換帶來極大靈活性。

　　全棧自主的軟件控制系統(tǒng)

　　AST6200光刻機搭載芯上微裝自主研發(fā)的全棧式軟件控制系統(tǒng)，從底層驅(qū)動到上層工藝管理實現(xiàn)100%自主可控。該系統(tǒng)具備強大的工藝擴展能力與遠程運維功能，能夠持續(xù)為設備全生命周期賦能，助力客戶實現(xiàn)智能化、高效率的產(chǎn)線運營。

　　從首臺AST6200光刻機交付到實現(xiàn)批量復購，不僅表明產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)業(yè)實際需求相契合，也標志著設備的核心性能與穩(wěn)定性經(jīng)受住了市場的檢驗。

　　原標題：芯上微裝AST6200光刻機獲行業(yè)頭部客戶重復訂單

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